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问题

半导体制造设备中，还有哪些是我国没有突破的

1

124 产品版区：低压电气

文档类型：问题类别：产品选型问题类别：产品使用问题类别：故障诊断

去过一次SEMICON的展会，发现国内的半导体设备厂家越来越多，不管是前道还是后道，都有我们国产的设备，反而是国外的设备厂家减少。
有没有参与到这个行业的，请教一下大家，现在还有哪些半导体制造设备是我们没有攻破的。

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evanbaozi 中级技术员

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. EUV 极紫外光刻机
全球ASML 独家垄断，国内无商用整机、无产线导入能力，无替代方案，是 7nm/5nm/3nm 先进制程的核心瓶颈。
现状：上海微电子仅在研发原型机，2026 年仅进入验证阶段，距离量产、商用至少 3–5 年。
国产化率：0%
2. 高端电子束检测 EBI、高端宏观缺陷检测
先进制程（14nm 及以下）必备良率设备，全球由应用材料、KLA垄断。
现状：国内仅能做成熟制程光学检测，先进节点 EBI 电子束缺陷扫描、关键尺寸量测完全无法商用，国产化率＜5%。
3. 高端 OCD 光学轮廓量测设备
用于晶体管、沟槽、薄膜三维形貌精密量测，先进制程刚需。
现状：国内无商用整机，完全依赖 KLA、日立，属于先进制程 “隐形卡脖子” 设备。

凹凸曼打小怪兽助理工程师

被采纳率 31.28% 2026-06-07 23:34

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evanbaozi

被采纳率15.56% 2026-06-01 09:46

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