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发布于 2016-05-14 16:45:38
6楼
对于改良西门子法多晶硅生产技术而言,确实会产生大量的氢氟酸污染,而物理法多晶硅的生产过程则不会有污染。
嗯 是的,污染会小。我以前用日系做过这行的一些大厂家不做的小设备,现在转阵地做医疗、打印等小设备行业了。对光伏新技术不太了解了。不过除去清洗,刻蚀等酸碱工艺。PN结形成的扩散等工艺也要用到酸碱,不知物理法怎么解决,还有物理法的效率比化学法好点吗,半导体硅片的表面处理纯物理法大概解决思路是什么。
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