钠还原计算机控制系统是对钠还原工艺过程的全面控制和监视。控制系统采用上下位机结构，下位机用西门子PLC S7-300系列，完成工艺过程主要参数和设备运行状态的采集和控制；上位机采用WinCC工作站，完成工艺过程控制参数的设定、流程画面的监视、报警及趋势、报表打印、远程通讯等一系列管理功能。
模拟量输入（AI）： 40路
模拟量输出（AO）： 25路
数字量输入（DI）： 30点
数字量输出（DO）： 52点
考虑到系统的可扩充性，系统实际需要的输入/输出点数量提供20%的备用量。
1、流程画面
显示系统各设备的运行状态以及各回路过程参数的状态、设定值、测量值、控制方式（手动/自动状态）、高低报警等信息。
2、控制画面
监视各回路主要参数的信息，输入各控制回路的运行参数，如设定值、PID参数值、高低限幅和报警值等，进行控制方式切换。
3、趋势画面
具有实时和历史两种趋势，实时趋势显示参数变量当前运行情况；历史趋势记录参数变量过去一段时间内的运行情况，以便用户查询。两种趋势图均可供用户自由选择参数变量数量、不同颜色和不同的时间间隔，也可以对数据轴进行任意的放大显示。
4、报警功能
显示当前所有正在进行的过程参数报警、系统硬件故障报警，并对用户进行的参数修改和运行方式改变进行记录备查。
5、报表功能
按照预先定义的格式打印报表和运行趋势曲线。
6、用户权限管理
系统设计系统管理员、工艺管理员、现场操作员等多级操作权限级别，防止误操作，任意修改工艺运行参数。