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论坛等级:侠圣
注册时间:2012-05-05
普通 如何晋级?
448
3
2019-01-21 10:29:46
对于恒温控制突变性负载,采用PID控制较好还是模糊控制较好???
例如半导体生产设备要求恒温±0.3°,晶圆研磨液处理设备与晶圆研磨机之间温差较大,研磨液处理设备输出研磨液要恒温26.5°(研磨机要求),而研磨机本身温度在开机时温度为室温24°,此时研磨液从研磨机返回液体温度差不多也是24°,恒温装置应答速度较慢往往导致偏差达到±2.5极限偏差°,用模糊控制可以做到±0.5°,PID控制因为需要调整时间滞后,有什么调整PID参数办法可以将滞后消除
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