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发布于 2022-03-21 10:58:59
8楼
说个题外话,晶片厚度2~5mm, 晶片厚度不均匀变化居然有1mm? 是不是你们的晶片切割设备太差了,1mm的不均匀将大大增加抛光工序的难度,同时也使得晶圆的利用率太差劲。
记得50+年前,在上海整流器厂见习过一段时间,人家的切割下来的硅片厚度不均匀是以微米考核的,也就1-3微米。
以上的说法可能不合时宜。这种说法的依据可能是WG期间的老技术工艺。现在技术进步到什么程度不知道。说话可能牛头不对马嘴。
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